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摄影劫——中国艺术家在第二届马德里摄影节

展览日期:2010-5-29 至 2010-6-27 分享到校内人人网 收藏到抽屉 转贴到开心网 QQ书签 百度搜藏 添加到新浪微博 Google书签 Google Translate yahoo收藏 Del.icio.us digg
开幕酒会:2010年5月29日,星期六下午四点
主办单位:伊比利亚当代艺术中心
展览地址:北京市朝阳区酒仙桥路4号798艺术区E06
艺  术  家:董文胜 高世强 韩磊 蒋志 金石
作品
概述
伊比利亚当代艺术中心将于2010年5月29日隆重推出董文胜、高世强、韩磊、蒋志、金石五位艺术家的影像作品展览“摄影劫——中国艺术家在第二届马德里摄影节”。作为中国当代影像艺术创作领域最为活跃的一线艺术家,他们的作品持续地吸引着来自国内外的广泛关注与讨论,并受邀参加2010年第二届马德里摄影节。作为西班牙乃至欧
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